作者:叶gx 时间:2024-10-29
纳米压印技术,即Nanoimprint Lithography(NIL或NIP),是一种微纳加工技术。其中纳米压印的分辨率由印模板图形的大小决定,由于物理上没有光刻技术中的衍射限制,纳米压印技术可以实现纳米级线宽的图形。
我司引入微纳加工纳米压印技术批量生产纳米光栅、纳米孔、纳米柱等产品,建立纳米光栅、纳米孔、纳米柱等标准化产品库,满足客户需求。
纳米压印原理
光刻技术(Lithography technology)的本质是掩膜版用于对光刻胶进行图案化,从而实现图案化沉积和蚀刻工艺,光刻工艺的分辨率由所用光源的波长决定。
而微纳加工纳米压印技术是将设计和制作在模板上的微观图形,通过压印等技术转移到涂有高分子材料的基板上。这种技术不仅能提高工艺的分辨率,还能为设计器件提供更多的自由度。
纳米压印(Nanoimprint Lithography,简称NIL或NIP)与光刻技术(Lithography technology)
与传统的光刻技术(Lithography technology),纳米压印技术具有诸多优势。第一,它具有高效率,可以大幅提升生产速度,降低成本。第二,纳米压印技术可广泛用于其他领域,拓宽了应用范围。第三,纳米压印技术在材料选择上更加灵活,不仅是硅基材料,还可以选择有机和柔性材料,提高了实用性。
另外,纳米压印替代的是光刻环节,只有光刻的步骤被纳米压印技术代替,和其他的标准制造工艺是完全兼容的,能很好的接入现有产业。
纳米压印(Nanoimprint
Lithography)的挑战和发展
虽然纳米压印技术(Nanoimprint Lithography,简称NIL或NIP)有不少的优点,但是纳米压印技术也还有一些短板。
1、良品的控制
纳米压印技术需要晶圆和掩膜直接接触,电路上容易混入细小垃圾和灰尘,要实现实用化,必须进行运用和制造技术方面的改良。
2、模板寿命低,更换的成本高
不管是DUV光刻、EUV光刻还是纳米压印,最贵的耗材都是掩膜版或者压印模板。纳米压印技术的模板是需要直接接触压印胶工作的,在接触的过程中难免会有各种各样的损伤或者污染,缩短模板的寿命。
3、对准困难
压印模板需要与承载压印胶的基台精确对准、贴合,需要精密的机械装置配合检测设备实施压印过程。而现有纳米压印设备在平行与垂直对准方面缺少高精密的调准机构,虽然我们可以沿用光刻上的光学对准或者莫尔条纹技术对准,但是纳米压印不仅有固化,还有垂直方向的压印运动过程,因此会带来多方向的偏差。
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