作者:李h 时间:2025-08-07
Leistungselektronik JENA GmbH (LEJ) 成立于 1991 年,源自德国蔡司(Zeiss)研究院,拥有超过 30 年的光子学技术积累,专注于定制化电子与照明解决方案。其核心优势包括:“德国制造”品质(ISO 9001 认证),年投诉率低于 1%,敏捷开发能力:覆盖电子、机械、热管理全流程,支持原型到小批量生产(10-1000 台/年),垂直整合:自主开发软件、硬件及光学系统集成,合作覆盖半导体、显微成像、机器视觉等领域。
LEJ 的产品线围绕高功率照明系统、电子镇流器、LED驱动展开,尤其擅长深紫外(Deep UV)和短波紫外(UVA)光源技术,其核心产品:
Deep UV HgXe-Discharge 深紫外放电光源
应用场景:半导体掩模(Mask)和芯片(Chip)检测,依赖 200-400nm 深紫外波段的高分辨率成像。
技术特点:
-采用高压汞氙(HgXe)放电光源,提供稳定的深紫外输出;
-配套电子镇流器(如 EB-Series)实现精准电流控制,延长光源寿命;
-模块化设计(如 LH-QX 200i-L)支持快速集成至检测设备。
Deep UV systems ebqx 100-04 & lh-qx 100.60
应用场景:替代传统汞灯,用于晶圆缺陷检测和光刻对准,波长覆盖 365-405nm。
技术优势:
高功率密度(如 luxyr LED MAGNA),瞬态响应快,适配高速扫描;
低热噪声,适合长时间连续工作;
兼容定制化驱动(如 ampyr LED-M 4C-30/40)。
2. 配套电源与驱动
-电子镇流器(如 EBU-Series):为放电光源提供稳定高压,支持脉冲调制;
-高速LED驱动(如 ampyr LED-D 16C-40/48):峰值功率达 35kW,满足纳米级检测的瞬时亮度需求。
半导体行业应用案例: ebqx 100-04,LH-QX 200i-L,LH-QX 100.60 Mask and Chip Inspection
在半导体制造中,LEJ 的深紫外放电光源和UVA模块主要用于:
-掩模缺陷检测:
通过 Deep UV HgXe光源(如 LH-QX 100.60)照射掩模,结合高灵敏度传感器捕捉微米级缺陷(如划痕、污染)。对比传统汞灯,LEJ 光源寿命提升 30%,且光强稳定性更高。
-晶圆表面检测:
UVA-LED 模块(如 LED INSPEX)提供均匀照明,配合光学系统识别晶圆上的颗粒或刻蚀误差;
高速驱动支持微秒级闪光模式,适配移动扫描平台。
-光刻对准系统:
定制化 luxyr LED ONE FLEX 模块提供多波长选择(365nm/385nm/405nm),优化对准精度。
主要竞争对手
LEJ luxyr在深紫外放电光源(ebqx 100-04,LH-QX 200i-L,LH-QX 100.60)领域的主要竞争对手包括 Excelitas Technologies、Lumencor、CooLED、89North,各厂商优势如下:
厂商 |
技术路线 |
优势领域 |
Excelitas |
高压脉冲氙灯、LED阵列 |
高亮度均匀性 |
Lumencor |
固态照明(激光/LED) |
多光谱灵活切换 |
CooLED |
高效散热LED模块 |
紧凑型设计 |
89North |
定制化光学系统集成 |
复杂光学适配 |
LEJ的关键优势:LEJ 的电子镇流器与光源协同设计能力突出(如 EB-Series + LH-QX),而竞争对手多依赖第三方电源。
总结
LEJ 凭借深紫外放电光源(ebqx 100-04,LH-QX 200i-L,LH-QX 100.60)和高功率LED模块,在半导体检测领域占据细分市场优势,尤其适合需要长寿命、高稳定性光源的Mask和芯片检测、显微成像场景。其核心竞争力在于:
-全自主技术链
-敏捷定制能力
-成本与性能平衡
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