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立陶宛Eksma的制造能力介绍,如非线性晶体抛光能力,IBS离子束溅射镀膜能力,普克尔斯盒生产能力

作者:李zx 时间:2025-12-19

本文将介绍立陶宛EKSMA Optics(简称Eksma)的产品制造能力,包括非线性晶体抛光能力,IBS离子束溅射镀膜能力,普克尔斯盒生产能力,基于CNC系统的透镜生产能力,平面光学元件制造能力,激光电子设备制造能力和光学系统研发与生产能力。以此来让您根据EKSMA Optics的产品制造能力了解他们的优势产品,对Eksma的产品质量感到安心。

-平面光学元件制造能力:

EKSMA Optics平面光学元件生产基地专注于加工和精磨多种材质的平面光学元件,涵盖N-BK7玻璃、其他各类玻璃、紫外熔融石英(UVFS)、红外石英(Infrasil)、超高纯石英(Suprasil)以及氟化钙(CaF2)。

生产流程以原材料坯料为起点,依次经过切割、倒圆、磨削工序,最终采用双面和单面抛光机完成精磨处理。该基地的产出将作为基底,输送至公司的CNC透镜制造部门和镀膜部门,用于生产反射镜、偏振光学元件、镀膜窗口片及滤光片等产品。

-非线性晶体抛光能力:

EKSMA Optics研发了适用于激光应用领域的多种非线性晶体和电光晶体的抛光技术,生产流程包括晶体成型、磨削和精磨。该生产环节专注加工的晶体种类有:磷酸二氘钾(DKDP)、磷酸二氢钾(KDP)、偏硼酸钡(BBO)、三硼酸锂(LBO)、磷酸钛氧钾(KTP)、铌酸锂(LiNbO3)、钨酸钆钾(KGW)、锗锌磷(ZnGeP2)、硫镓银(AgGaS2)、硒镓银(AgGaSe2)。

-IBS离子束溅射镀膜能力:

离子束溅射(IBS)是满足激光光学元件严苛要求的最先进镀膜技术,能够沉积光谱参数精确可控的介质薄膜涂层。借助宽带光学光谱监测和镀膜过程中的膜层厚度控制,IBS工艺具有极高的可重复性。

与其他商用镀膜技术相比,采用IBS技术镀膜的光学元件和晶体具有最高的激光诱导损伤阈值(LIDT)。其光谱性能在环境条件变化时稳定性强,在真空中无光谱偏移,且镀膜层致密无孔、附着力优异。

EKSMA Optics的IBS设备镀膜区域直径可达30厘米,镀膜均匀性优于1%,可在各类光学玻璃和熔融石英上沉积高反射(HR)、部分反射(PR)、抗反射(AR)、滤光片及偏振涂层。此外,公司还研发并沉积了适用于 LBOBBOLiNbO3KTP等非线性晶体的超高损伤阈值抗反射涂层。

IBS镀膜基地配备了多槽自动超声波清洗机、洁净室专用工作台,以及带有工具和显微镜的层流罩(用于光学元件表面的预处理和检测),同时还拥有用于镀膜后光学元件进一步处理的热退火设备。

-基于CNC系统的透镜生产能力:

EKSMA Optics于2015年启动透镜生产业务,目前可生产直径8毫米至150毫米的球面透镜、非球面透镜和锥形(轴棱锥)透镜,材质涵盖多种等级的熔融石英、N-BK7玻璃、S-LAH64玻璃、SF5玻璃及其他各类玻璃。


-Pockels Cells普克尔斯盒生产能力:

EKSMA Optics生产基于磷酸二氘钾(DKDP)、偏硼酸钡(BBO)和磷酸钛氧钾(KTP/RTP)电光晶体的普克尔斯盒,并提供用于普克尔斯盒运行控制的高压驱动器和高压电源。

DKDP普克尔斯盒:提供多种封装形式,搭载单块或双块DKDP晶体,标准晶体孔径为5×5毫米至20毫米(直径)。

BBO普克尔斯盒:可选单块、双块或4BBO晶体配置,标准晶体孔径为3×3毫米至8×8毫米;可生产适用于高功率超快激光器、重复频率超过1兆赫兹(MHz)的BBO普克尔斯盒,并采用特殊共振抑制技术。

KTP/RTP普克尔斯盒:标准封装为1英寸直径封闭式封装,也提供开放式X框架结构。

-激光电子设备制造能力:

EKSMA Optics设有激光电子设备研发与生产部门,产品涵盖超快脉冲拾取系统、高压电源、激光同步模块以及高功率激光二极管专用电源。

-光学系统研发与生产能力:

EKSMA Optics具备完整的光学系统生产能力,业务范围从基于ZEMAXSolidWorks软件的光学系统设计,延伸至扩束器等产品的最终生产与组装,可提供固定焦距、手动变焦或电动调节的光学系统。

以上就是Eksma的晶体生产设备,非线性晶体抛光能力,IBS离子束溅射镀膜能力,普克尔斯盒生产能力,基于CNC系统的透镜生产能力,平面光学元件制造能力,激光电子设备制造能力和光学系统研发与生产能力的介绍。

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