Femtum中红外纳秒光纤激光器在薄膜加工上的优势

透明导电薄膜(TCF)广泛用于现代电子设备中。这些薄的导电薄膜在沉积在玻璃、硅或聚合物基板上时可以带电。TCF可用作OLED和太阳能电池的电极，或者用于您最喜欢的手机触摸屏上的导电层。

图1：透明导电膜(TCF)是所有触摸屏技术的基础

在TCF中，氧化铟锡(ITO)因其出色的透明度和电气特性而成为行业标准。最近的材料，如氧化石墨烯(GO)或PEDOT，由于它们比ITO更容易弯曲，因此在柔性电子产品方面显示出巨大的前景。

透明导电膜的图案化

这些导电层的图案化是一个非常重要的制造过程，他可以去除掉某些部分，凸显功能化和表面的电气特性，并根据应用项目在该层上创建电路。与光刻相比，激光图案化是一种未来很有前途的解决方案，因为它可以灵活地定制具有非常高的通光量的图案化，同时节省预处理步骤所产生的消耗。

对于TCF的激光图案化而言，最大的挑战之一是：要在不影响底层基板（玻璃、聚合物、硅等）的情况下选择性地去除薄膜。根据沉积工艺或应用，还可能优选去除基板上方的TCF层（正面处理）或穿过基板（背面处理），如图2所示。

图2：TCF激光图案化的两种方法：正面和背面加工

选择中红外激光器对薄膜进行激光图案化

为了克服对薄膜进行激光图案化的挑战，Femtum开发了一种新的2.8µm中红外脉冲光纤激光器，用于选择性的去除不同基材上的透明导电薄膜。

中红外纳秒激光器是薄膜图案化的理想选择，因为大多数导电薄膜基于氧化物材料，在3µm左右的波长处具有强烈吸收。与紫外或近红外激光图案化相比，在不影响衬底的情况下，更容易的能选择性地去除不需要的薄膜层，衬底在这些中红外波长下具有更高的烧蚀阈值。

图3显示了使用FemtumNano2800nm激光器使用正面和背面处理方法在PET上形成ITO图案的示例。

图3：使用FemtumNano2800纳秒脉冲激光器激光器对PET进行氧化铟锡(ITO膜)加工。前处理和后处理不会对PET基材造成任何损坏。

由于FemtumNano2800具有出色的光束质量，还可以实现具有小特征尺寸（约10µm）的精确图案化，如图4所示。

图4：ITO在PET上的精确图案化，尺寸为12um

使用这种多功能的工业光纤激光器，在各种基材上加工纳米银线透明导电薄膜（TCF），如柔性聚合物（PET、PMMA、聚酰亚胺等）或其他中红外透明基材（硅、锗），可以开辟更加广泛的应用。