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提供定制服务的NeutroniQ系列温控样品池支架,用于中子散射与X射线散射实验,Quantum Northwest

作者:包cx 时间:2026-08-04

Quantum Northwest公司是一家专业制造商,长期致力于光谱分析用温控样品池支架的研发与生产,并且提供灵活多元化定制服务。NeutroniQ系列温控样品池支架是Quantum Northwest专为中子散射与X射线散射实验量身打造的精密温控解决方案。与传统的固定产品线不同,NeutroniQ系列是一个持续演进的定制化项目,不断适应新的实验需求。无论是需要多个样品池、特殊样品容器、扩展温度能力、独立单元控制还是定制搅拌选项,Quantum Northwest均可设计出符合研究需求的解决方案。

标准典型配置方面,NeutroniQ系列温控样品池支架兼容12.5mm×12.5mm标准比色皿,每个样品池配备2个光学端口(12mm高×10mm宽)。温控比色皿支架的散热方式为水循环,热敏电阻探头为Probe/10k型,默认搅拌转速1200rpm,搅拌转速范围1-2500rpm,最佳性能区间60-1800rpm

NeutroniQ系列温控样品池支架的参数规格:

参数

规格

受控样品数量

按需定制

设计用途

中子散射与X射线散射

样品池尺寸

标准比色皿12.5mm×12.5mm(典型值)

每个样品池光学端口数量

2个(典型值)

光学端口尺寸

12mm高×10mm宽(典型值)

内置光学狭缝支架

按需定制

样品池Z轴高度

按需定制

是否配备带窗口的夹套/护套

散热方式

水循环(典型值)

可编程温控范围

按需定制

温控范围

按需定制

扩展温控选项

不适用

(扩展)可编程温控范围

不适用

(扩展)温控范围

不适用

热敏电阻探头类型

Probe/10k

磁力搅拌电机类型

按需定制

默认搅拌转速

1200rpm(典型值)

搅拌转速范围

1-2500rpm(典型值)

最佳性能搅拌转速范围

60-1800rpm(典型值)

从技术规格表中可以清晰看到,温控比色皿支架的多项关键参数均标注为“按需定制”,包括受控样品数量、内置光学狭缝支架、样品池Z轴高度、可编程温控范围、温控范围、磁力搅拌电机类型。这意味着每一套NeutroniQ系列温控样品池支架都是根据具体实验需求专门设计的,而非从固定规格中进行选择。

样品池温控支架的热敏电阻探头类型是Probe/10k,热敏电阻是一种温度传感器,它的电阻值会随着温度的变化而显著变化。在可控温度比色皿支架系统中,它负责实时测量样品池的实际温度,并反馈给温度控制器,形成一个闭环控制系统。"Probe/10k" 指的是该样品池温控支架兼容的探头类型。"10k" 是指该热敏电阻在25°C时的标称电阻值为10000欧姆(即10kΩ)。磁力搅拌是一种常见的非接触式搅拌方式。在样品池底部或内部有一个很小的磁力转子,Quantum Northwest温控样品池支架内部有一个旋转的磁铁或电机,通过磁场变化带动样品池内的搅拌转子旋转,从而搅动液体样品,使其温度和浓度均匀。温控比色皿支架最佳性能搅拌转速范围60-1800rpm是厂家通过测试认为的“黄金区间”,在这个范围内,搅拌子能稳定转动,液体能高效混匀,且不会干扰光学检测。日常使用时,建议优先将可控温度比色皿支架转速设置在这个区间内。


Quantum Northwest公司推出的NeutroniQ系列温控样品池支架,是专为中子散射与X射线散射实验设计的定制化温控解决方案。与固定规格的标准化Quantum Northwest温控样品池支架不同,NeutroniQ系列可控温度比色皿支架以“按需定制”为核心——受控样品数量、可编程温控范围、温控范围、样品池Z轴高度、内置光学狭缝支架、磁力搅拌电机类型等关键参数均根据实验需求专门设计。对于需要为中子散射或X射线散射实验寻找样品池温控支架的研究人员而言,NeutroniQ系列温控样品池支架以其专业定位、灵活定制和完整配置,成为值得重点关注的选择。

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