作者: 时间:2024-08-13
光学元件采用高质量的PVD镀膜进行精制,以保护表面免受环境影响或改善其光学性能。应用的镀膜厚度范围从几纳米到几微米不等。光学镀膜的沉积是一个复杂的过程。重要的参数是折射率、基材的温度、真空度和镀膜速度。然后,电解质薄膜材料的选择基于光学、机械和化学性能。相比于金属镀膜,电解质镀膜由于其低吸收性而特别适用于激光系统。带Pleiger Laseroptik介电镀膜的光学元件的反射率大于99%。
Pleiger Laseroptik介电薄膜的优势:
-对环境影响具有很高的抵抗力
-极薄的涂层
-吸收率低于金属涂层
-应用范围广
-Pleiger Laseroptik具有高水平的经验和专业知识
Pleiger Laseroptik电解质镀膜的应用:
-玻璃、硅和锗上的增透膜
-红外滤光片涂层
-高反射镜
-保护涂层
常见的介电镀膜使用的电解质薄膜材料主要包括:氧化物、氟化物以及硫化物/硒化物三种类型。具体的氧化物电解质薄膜材料有二氧化钛(TiO2)、二氧化铪(HfO2)、五氧化二钽(Ta2O5)、二氧化硅(SiO2)、氧化钇(Y203)。氟化物电解质薄膜材料有氟化镁(MgF2)、氟化钡(BaF2)、YF3。硫化锌(ZnS)和硒化锌(ZnSe)也是电解质薄膜材料。
由金属制成的光学镀膜有时具有相当大的吸收损失。因此,对于许多技术应用来说,反射率太低。因此,对于高反射镜,Pleiger Laseroptik专门使用介电镀膜。它们透射非反射部分,因此可以达到非常低的吸收值。Pleiger玻璃镀膜系统针对一种波长或激光进行了优化,因此可实现高达99.9%的反射值。Pleiger玻璃镀膜可以生产一种或两种波长的反射镜,甚至用于宽带应用。这种高功率镀膜针对高功率激光应用进行了优化。
硅镀膜是生产高功率激光反射镜的一种方法。硅的介电薄膜用于增加反射。硅电解质镀膜改善了光学应用的表面性能,可用于谐振器、偏转装置中,用于光束整形。通过适当的冷却和安装,这些带有介电镀膜的光学元件可以处理高达几千瓦的激光功率。