Andover 193nm滤光片，Edmund 193nm带通滤光片与Acton紫外滤光片的参数对比和差异

193nm是深紫外（DUV）光谱段中的关键波长，在半导体沉浸式光刻、ArF准分子激光系统、深紫外光谱分析、环境监测及激光微加工等高端应用领域具有不可替代的地位。在短至193nm的深紫外区域，光学材料和镀膜技术面临诸多物理瓶颈——绝大多数光学玻璃在此波段已完全不透光，即便是石英材料也存在显著吸收，这给滤光片的设计、制造与性能实现带来了极大挑战。本文对比了Andover 193nm滤光片193HX15-25、Edmund 193nm带通滤光片以及Acton 深紫外带通滤光片FN193-N系列，从峰值透过率、带外阻挡能力以及产品设计等多方面进行对比分析。

深紫外带通滤光片产品设计对比：

193nm滤光片193HX15-25属于Andover第一表面紫外滤光片（First-surface UV Filters）产品线，其核心设计理念是将镀膜沉积在紫外级熔融石英基材的单个表面上，并包括一层硬氧化物镀膜以提供保护，避免了多层玻璃之间的胶合与层压，从而实现更薄的整体结构。深紫外滤光片193HX15-25的厚度仅为1.5±0.25mm，为三家供应商里最薄。该设计不依赖任何吸收型滤光片玻璃，因而具有更宽的操作温度适应性，适合高温环境及有自动荧光抑制需求的严苛深紫外系统。

Edmund提供的193nm传统镀膜带通干涉滤光片则采用经典的三段式制造工艺。根据官方产品页面说明，传统镀膜滤光片在制造时分为三个部分分别设计，其中一部分（带通部分）决定了中心波长、带宽和透射率曲线的形状，其余两部分负责控制滤光片的阻断范围。带通部分通过在玻璃基板上重复真空沉积反射性电介质化合物的薄膜制成，而由于相消干涉产生的波长抑制仅限于中心波长的15%以内，必须额外添加金属阻挡层（如银层）或吸收性有色玻璃来降低带外透射率。三个部分在薄膜沉积完成后经过划片、层压、切割和安装流程组合成型。

Acton深紫外带通滤光片在193nm以上波段采用开放式即第一表面镀膜的方式，但是无保护层。更多的设计还是多层结构，配备熔融石英盖以提供保护。如下图所示，在基板之间放置一个间隔环以形成一个小气隙，然后对边缘进行密封。这种设计使得在处理滤光片时，不会触及脆弱的滤光片涂层。请注意，覆盖滤光片会使其透射率降低2-3%。边缘密封会使滤光片的直径增加约0.010英寸（0.254毫米）。带盖且边缘密封的滤光片的总厚度约为开放式设计的两倍。

深紫外滤光片/193nm滤光片关键光学性能参数对比：

Andover DUV滤波片193HX15-25（左）与Edmund 193nm带通滤光片（右）的透过率比较

通过对比我们发现，Andover 193HX15-25深紫外滤光片是适用于系统空间有限，对滤光片厚度要求严格或者在高温环境中稳定运行的第一表面镀膜滤光片。在带外阻断方面，该深紫外带通滤光片覆盖了从X射线到远红外的整个光谱范围，平均阻挡能力达到1×10⁻⁴（相当于OD4光学密度），确保了带通区之外几乎完全截止。由于其第一表面涂层设计不含吸收型滤光片玻璃，该193nm滤光片适合高温环境及有自动荧光抑制需求的系统。常见的应用领域包括ArF准分子激光线分离、深紫外光谱分析等。Edmund 193nm带通滤光片193HX15-25在峰值透过率（＞12%）和中心波长精度（±3.5nm）等核心指标上基本相当，但在厚度和阻挡光谱范围方面存在差异。该193nm带通滤光片阻断波长范围为200nm至10000nm，OD≥4.0，适用于阻止紫外至红外波段的杂散光。其封装厚度为3.5mm，提供了12.5mm、25mm和50mm三种直径选项，满足不同系统集成尺寸的需求。该193nm滤光片的工作温度范围为-50°C至+50°C，适用于常规实验室和工业环境。典型应用包括临床化学、环境测试、比色法、元素与激光线分离、荧光测定与免疫测定等生物医学与定量化学分析场合，也可用于从弧光灯或气体放电灯中选择离散光谱线。而Acton DUV滤波片FN193-N系列中心波长精度更佳，公差±2.5nm，但带宽更宽，误差精度也更大，透过率能达到15%以上，该193nm滤光片更适用于覆盖从真空紫外到紫外较宽光谱范围的分析仪器。