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丹麦NILT供应各类材质（包括硅、石英、聚合物、镍、PDMS）的纳米压印模板/掩膜标准品。这些纳米压印模板/母膜的制造通常是由热模压、滚印、注射模塑或紫外压印等工艺制成，根据功能的不同。NILT纳米压印掩膜可分为抗反射掩膜，增光掩膜，衍射光栅模板，金属线栅偏光镜标准模板，微针体标准母膜，大面积柱形标准母膜，微图形标准模板 (MICRO)，亚微米标准模板等热压印模板，NILT提供大量的微加工掩膜标准品以便快速满足用户的需求。 型号：ARSS_B_06……
所属品牌： 欧洲厂商
应用类型：
产品型号：
负责人：孙泽明2
联系电话：13692216712
电子邮箱：zmsun@welloptics.cn
已经不代理NILT旗下产品，请联系其他代理商
丹麦NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 公司除了提供纳米压印机外，还供应各类材质，各类功能的压印模板，掩膜。
NILT通过纳米压印机的热模压、滚印、注射模塑和紫外压印等不同的工艺，能生产制造出各类不同功能的掩膜/模板。其中标准的压印掩膜（模板）根据功能的不同，分为抗反射掩膜，增光掩膜，衍射光栅模板，金属线栅偏光镜标准模板，微针体标准母膜，大面积柱形标准母膜，微图形标准模板 (MICRO)，亚微米标准模板。
标准压印掩膜（Standard Stamp）
NIL抗反射掩膜 (ANTI-REFLECTION)
抗反射膜模板的特点是以大面积为主；适用于可见光范围和近红外范围，反射率可减低到 0.2%
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规格 |
Type B |
Type A |
Type C |
Type NIR |
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模板型号 |
ARSS_B_06 |
ARSS_A_02 |
ARSS_C_02 |
ARSS_NIR_02 |
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材质 |
Nickel |
Nickel |
Nickel |
Nickel |
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光栅类型 |
Hexagonal Array |
Hexagonal Array |
Hexagonal Array |
Hexagonal Array |
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Pitch |
300 nm |
250 nm |
250 nm |
500 nm |
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Average height |
300 nm |
350 nm |
350 nm |
Larger than 700 nm |
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模板厚度 |
300 µm |
300 µm |
300 µm |
300 ?m |
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模板尺寸 |
70 mm x 70 mm |
120 mm x 120 mm |
250 mm x 250 mm |
100 mm x 100 mm |
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有效面积 |
50 mm x 50 mm |
100 mm x 100mm |
200 mm x 200 mm |
80 mm x 80 mm |
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Expected %R PMMA |
Less than 0.6% |
Less than 0.2% |
Less than 0.2% |
Less than 0.2% |
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Pattern polarity |
Protrusions |
Protrusion |
Protrusions |
Holes |
NIL衍射光栅模板 (DIFFRACTION GRATINGS)
衍射光栅采用镍材质模板，表面纹路分为线状或交叉状两种，平均深度为250nm，线距为500nm。适合用于：LED & OLED 光的外耦合OUT-COUPLING，将不同光导入波导WAVEGUIDE，光学分束，镭射感应器，薄膜行业和太阳能光伏等。
特点：
纹路形状呈正弦曲线SINUSOIDAL ，纹路的参数也不同
80 x 80mm有效面积（模板面积为100 x 100mm）
规格：
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规格 |
Linear Grating |
Crossed grating |
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模板型号 |
DG_L500 |
DG_C500 |
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材质 |
Nickel |
Nickel |
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Profile shape |
Sinusoidal |
Sinusoidal |
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Pitch |
500 nm |
500 nm |
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Average depth |
250 nm |
250 nm |
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模板厚度 |
300 µm |
300 µm |
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模板尺寸 |
100 mm x 100 mm |
100 mm x 100 mm |
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有效面积 |
80 mm x 80 mm |
80 mm x 80 mm |
NIL金属线栅偏光镜模板(WIRE GRID POLARIZER)
一般金属线栅偏光镜制造出来后需要经过一定测试，而NILT通过纳米压印生产出金属线栅偏光镜的标准模板，可避免频繁的测试，免去因测试所造成的成本。标准模板的线呈槽状，槽宽、槽距均为50nm，模板的有效面积可达12 x 12mm, L/S 50nm，模板复制子模适用于UV或热压过程。
规格：
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规格 |
Type A |
Type B |
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模板型号 |
WGPSS_A_V1 |
WGPSS_B_V1 |
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模板尺寸 |
2 inch round wafer with flat |
2 inch round wafer with flat |
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材质 |
Silicon |
Silicon |
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有效面积 |
12 mm x 12 mm |
6 mm x 6 mm |
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模板厚度 |
500 µm +/- 25 µm |
500 µm +/- 25 µm |
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结构类型 |
50 nm wide grooves with 50 nm spacing |
50 nm wide grooves with 50 nm spacing |
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横向公差 |
+/- 10 nm |
+/- 10 nm |
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结构深度 |
100 nm |
100 nm |
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垂直公差 |
+/- 15 nm |
+/- 15 nm |
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缺陷密度 |
Less than 0.01% of patterned area |
Less than 0.01% of patterned area |
NIL微针体标准模板 (MICRO-NEEDLE STANDARD STAMP)
NILT提供的微针体标准模板的特点是特点：1. 微针呈正方形排列相隔500um； 2. 有效面积达70mm(斜角计)
微针体模板可经热压或铸造出所需微针形状，可利用模板采用镍片注塑而成。标准模板造出的微针体有足够硬度可用于皮肤的不同测试，医学方面可应用的涂药式微针或注射式微针。
规格：
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规格 |
Micro-needle - Type A |
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模板型号 |
MNSS_A_V1 |
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材质 |
Silicon |
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微针布局 |
Square array |
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微针基本尺寸 |
100 µm x 100 µm |
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微针高度 |
200 µm (base to tip) |
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微针尖端高度 |
70 µm |
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微针尖端曲率半径 |
~1 µm |
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微针间距 |
500 µm |
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模板尺寸 |
100 mm diameter (SEMI standard wafer with a flat) |
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模板厚度 |
525 µm (SEMI standard wafer with a flat) |
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有效面积 |
70 mm diagonal square area in the center |
NIL精工增光掩膜 (LINEAR AND CIRCULAR ENGINEERED DIFFUSERS)
NILT的精工增光掩膜可精准控制增光度，形状可选择直线、椭圆形和圆形，定制性强，面积可达 120x 120mm。它的功能在于控制照明元素LIGHTING ELEMENTS和光源LIGHT SOURCES的光量。例如镭射、LED、LCD的背光源，而同时拥有很高的透光率。
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规格 |
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Circular version |
Type B |
Type D |
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模板型号 |
EDSS_B_C_V1 |
EDSS_D_C_V1 |
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结构类型 |
Engineered Diffuser |
Engineered Diffuser |
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输出类型 |
Circular diffusion |
Ciruclar diffusion |
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Diffusion angles (FWHM)* |
25° |
25° |
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材质 |
Nickel |
Nickel |
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模板厚度 |
300 µm |
300 µm |
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模板尺寸 |
70 mm x 70 mm |
120 mm x 120 mm |
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有效面积 |
50 mm x 50 mm |
100 mm - 100 mm |
NIL大面积柱形标准模板 (LARGE AREA PILLARS)
大面积柱形标准模板采用光子晶体结构，是以方形排列光子晶体并分布在4个1平方米的格子的硅晶圆上。
可选4种不同规格的大面积柱形模板，结构尺寸在125 – 275nm之间，
规格:
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规格 |
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模板型号 |
LAPSS_V1 |
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模板尺寸 |
2 inch round wafer |
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材质 |
Silicon |
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厚度 |
525 µm +/- 25 µm |
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结构尺寸 |
125 nm, 175 nm, 225 nm, 275 nm (rounded squares) |
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Structure pitch |
200 nm, 300 nm, 400 nm, 500 nm |
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Protrusion height |
100 nm - 300 nm (you decide!) |
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Tolerance, lateral and vertical dimensions |
+/- 15% |
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缺陷密度 |
Less than 0.1% of total patterned area |
NIL亚微米标准模板 (SUB-MICRO)
亚微米标准模板的图形有3种，包括线(500nm)、柱(1um)、孔(2um)，是专门为测试亚微米至纳米级压印而设计的，材料可选择硅或石英，标准尺寸为 20 x 20mm。
规格：
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模板型号 |
MSS_V1 |
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模板尺寸 |
20 mm x 20 mm |
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材质 |
Silicon |
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厚度 |
1 mm |
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结构尺寸 |
1 µm - 50 µm |
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Etch depth |
2 µm, 5 µm or 10 µm |
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Pattern field size |
4 mm x 4 mm |
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交期 |
3-4 weeks |
NIL微图形标准模板 (MICRO)
微图形标准模板有4种图形,包括直线、横线、柱状和孔状，其尺寸为1um, 5um, 10um, 50um呈现在20mm x 20mm硅晶圆片上。
规格：
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模板型号 |
SMSS_SIQZ_V1 |
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模板尺寸 |
20 mm x 20 mm |
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材质 |
Silicon or Fused Silica |
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厚度 |
1 mm |
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结构尺寸 |
500 nm - 2 µm |
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Etch depth |
1 µm or 2 µm in Silicon. 500 nm in Fused Silica |
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Pattern field size |
5 mm x 5 mm |
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交期 |
3-4 weeks |
微透镜阵列模板
NILT提供带凹面或凸面微透镜阵列的纳米压印模板，用于通过热压印或注塑成型生产聚合物微透镜阵列。 材质一般采用熔融石英或镍制成。 NILT可以独立的控制镜头深度、高度和宽度，因此可以在压印模板上制作任何抛物面镜片形状。
压印模板的直径可达150mm，镜头尺寸从300nm-400μm，还可以提供具有凸透镜和凹透镜阵列的聚合物材质复制品。
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微透镜阵列压印模板 |
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压印模板尺寸 |
可达150 mm |
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压印模板材质 |
熔融石英或镍 |
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微透镜尺寸 |
300 nm - 400 µm |
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SAG |
可达 50 µm |
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Lens arrangements |
Hexagonal closed packed |
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Square and hexagonal, not closed packed |
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Lenticular |
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