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DOE专用掩膜

DOE专用掩膜

DOE专用掩膜是海纳光学设计的专门用于提高衍射光学元件输出光斑质量的一种光学元件,其又被成为高级次衍射阻挡掩膜,高功率掩膜,电介质反射掩膜,英文名称为High Power Masks或Precision aperture for high power laser。其结构是在玻璃基板上镀有一层很薄(~1μm)的图案反射涂层,从而起到反射不需要的高衍射级次杂散光线的效果。

所属品牌: 海纳光学 Highlightoptics

应用类型:

产品型号:DM-010

负责人:陈工 结构光DOE
联系电话:13418906712 电子邮箱:chenpeng@welloptics.cn

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高品质DOE专用掩膜,可阻挡不需要的高衍射级次光学


高功率掩膜(DOE专用掩膜)——用于精密控制大功率激光的孔径

高功率掩膜,英文名称为High Power Masks,主要用于精密的控制大功率激光的孔径,它的结构是在玻璃基板上镀有一层很薄(~1μm)的图案反射涂层。

高功率掩膜的典型参数

外直径

5 - 100 mm

孔的形状

圆形、方形、 多孔径,其他

孔径尺寸

10 um - 60 mm

波长范围

193 - 11000 nm

Transfer Region

Small; sharp edges

SNR

~500

Shape size

>5 um

 

高功率掩膜通常分为两种不同类型的掩膜


一种是电介质反射掩膜

电介质反射掩模,英文名为Dielectric Reflective Mask,是在熔融石英的基底上,镀一层由非常薄(〜1um)的反射涂层图案。涂层部分反射入射光束,而未涂层部分透射光束。


电介质反射掩膜的特性:

针对单波长设计,高损伤阈值,低吸收率

反射部分,> 99%的高反射率

透明部分,> 95%的高透射率

很薄的掩膜层(~1um)

 

另一种是透射成像掩模

透射成像掩膜,英文名为Transmissive Imaging Mask,透射式掩模的特点是透射全部入射光,没有任何阻挡,透射掩模使用衍射图案以大角度漫射不需要的波段。

它的工作原理如下:

       中心有一个和反射式掩膜类似的透明区域,光线直接透过,周围区域具有衍射图案,使不需要的入射光以大角度出射。配合聚焦镜后焦平面放置的小孔,就可以阻挡大部分漫射光,从而达到阻挡多余激光的效果。


透射掩膜的特点:

不会有反射光的风险,导致损坏光学系统

~100%传输效率

比反射式掩模更高的激光损伤阈值

价格实惠

 

高功率掩膜的应用领域:

缩减传输区域,设置一个很小的传输区域

控制激光衍射图案的大小


高功率掩膜的型号规格:

型号

直径 (mm)

孔径尺寸(um)

孔径形状

材质

DM-017

85

50075

Square

熔融石英

DM-010

25.4

5680

Round

熔融石英

DM-004

25.4

1750

Square

熔融石英

DM-009

25.4

6200

Round

熔融石英

DM-019

25.4

300

Square

熔融石英

DM-007

25.4

10838

Round

熔融石英

DM-006

25.4

7000

Square

熔融石英

DM-005

25.4

3500

Square

熔融石英

DM-008

20

8428

Round

熔融石英

DM-016

11

5400

Round

熔融石英

DM-015

11

3000

Round

熔融石英

DM-014

11

4214.9

Round

熔融石英

DM-013

11

2408

Round

熔融石英

DM-012

11

3612

Round

熔融石英

DM-011

11

4817

Round

熔融石英

DM-003

11

165

Square

熔融石英

DM-002

11

65

Square

熔融石英

 

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