日本OXIDE 114nm脉冲VUV激光器(11eV光子能量)专为光电子能谱(PES/ARPES/TOF)设计,具备高相干性、微聚焦选项及一体化光学结构,无需调试。提供50MHz/5MHz高重复频率,功率>5μW,能量分辨率<0.6meV,脉宽<30ps,适用于电池/纳米材料研究。工业级可靠性,降低空间电荷效应,加速科研效率。
所属品牌: 日本 Oxide
应用类型:
产品型号:PEV-H,PEV-L
负责人:戴湘麟
联系电话:13423881512
电子邮箱:team5@welloptics.cn
114nm,11eV光子能量,OXIDE脉冲VUV激光器
日本OXIDE 114nm脉冲VUV激光器(11eV光子能量)专为光电子能谱(PES/ARPES/TOF)设计,具备高相干性、微聚焦选项及一体化光学结构,无需调试。提供50MHz/5MHz高重复频率,功率>5μW,分辨率<0.6meV,脉冲带宽<30ps,适用于电池/纳米材料研究。工业级可靠性,降低空间电荷效应,加速科研效率。
114nm真空紫外激光器/114激光器/真空紫外VUV相干光源/11eV激光器/114nm激光器/VUV皮秒激光器/ VUV激光光源/114nmVUV光源(PEV-H,PEV-L)是一款专门为光电子能谱(PES)应用设计的真空紫外(VUV)相干光源。它基于日本OXIDE的深紫外激光技术研发而成。例如,将该VUV光源与角分辨光电子能谱仪(ARPES)和飞行时间(TOF)分析仪集成后,能够构建用于开发电池材料、纳米材料等的新材料开发工具,也有助于实现全新的激光光电子能谱仪。
日本OXIDE的114nm真空紫外激光器/114激光器/真空紫外VUV相干光源/11eV激光器/114nm激光器/VUV皮秒激光器/114nmVUV光源输出具有相干性,因此可以使用单个透镜将激光聚焦到目标样品上(可选微聚焦)。通过将所有光学元件集成在一个单元内,现场无需对设备进行调整,从而缩短了从设备交付到开始光电子能谱测量的准备时间。PEV系列VUV激光光源专为研究应用设计,具备工业级质量,可靠性高。
114nm真空紫外激光器/114激光器/真空紫外VUV相干光源/11eV激光器/114nm激光器/VUV皮秒激光器/114nmVUV光源
114nm真空紫外激光器/114激光器主要特点
-激光输出相干,可单透镜聚焦(可选微聚焦)。
-光学元件一体化集成,现场免调试。
-工业级质量,可靠性高,适用于研究应用。
真空紫外VUV相干光源/11eV激光器主要应用
-光电子能谱分析。
-作为角分辨光电子能谱仪(ARPES)的激发光源。
-作为飞行时间光电子能谱仪(TOF)的激发光源。
114nm激光器/VUV皮秒激光器/114nmVUV光源规格
型号 |
PEV-H |
PEV-L |
光子能量 |
11eV*1(114nm波长) |
|
能量分辨率 |
<0.6meV |
|
重复频率 |
50MHz |
5MHz*2 |
输出功率*3 |
>5μW |
>3μW |
脉宽 |
<30ps |
|
特点 |
峰值功率受抑制,空间电荷效应降低 |
出厂预设重复频率,可根据客户TOF应用选择 |
注:
*1.对应114nm光波长。
*2.可在0.5MHz-5MHz范围内设置。
*3.初始输出功率。